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JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 2008; 155 (5): H319

The optical and electrical properties of Zn-doped CuAlO2 thin films deposited by RF magnetron sputtering

Dong, PM; Zhang, M; Dong, GB; Zhao, XP; Yan, H
Dong, PM, Beijing Univ Technol, Coll Mat Sci & Engn, Beijing 100022, Peoples R China.
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Abstract


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