真空紫外短パルスレーザーをプローブとする新しい表面分析技術の開発

负责人：横谷 篤至 宮崎大学, 工学部, 教授 (00183989)

依托单位：宮崎大学

批准年份：2019

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项目简介
项目名称
真空紫外短パルスレーザーをプローブとする新しい表面分析技術の開発
项目批准号
19K05273
学科分类
暂无数据
资助类型
基盤研究(C)
负责人
横谷 篤至 宮崎大学, 工学部, 教授 (00183989)
依托单位
宮崎大学
批准年份
2019
起止时间
201904-202303
批准金额
4420000.00日元
摘要
暂无数据
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